9月25日消息，据报道，Intel正在加码采购ASML的High-NA EUV光刻机，计划购买两台相关设备，这一数量较之前计划的单台设备翻了一番。

ASML的High-NA EUV光刻机不仅价格高昂，更能够实现更高的分辨率和更精细的芯片制造关键，是未来高端芯片制造的关键。

目前，全球仅有少数几家公司能够获得ASML的High-NA EUV设备，包括台积电、三星、SK海力士和Intel。

Intel的14A工艺计划引入高数值孔径（High-NA）光刻技术，这将是Intel代工服务（IFS）部门的重大里程碑。

14A工艺的成功与否对Intel的未来发展至关重要，因为如果该工艺无法获得客户的广泛采用，Intel可能会放弃对高端芯片制造节点的追求。因此，14A工艺可以说是Intel在高端芯片制造领域的“背水一战”。

据估算，ASML的单台High-NA EUV光刻机价格约为3.7亿美元，意味着Intel仅在光刻设备上就可能花费10亿至20亿美元。

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