浙江征求意见:晶圆制造领域加速突破3-7nm制程 发展先进制程光刻机、刻蚀机等
时间:2026-01-12 | 作者: | 阅读:0快科技1月12日消息,近日,浙江省经济和信息化厅发布关于公开征求《浙江省“十五五”新型工业化规划(征求意见稿)》意见的通知。
意见稿提到,新时代新征程,以中国式现代化全面推进强国建设、民族复兴伟业,实现新型工业化是关键任务。为扎实推进新型工业化,加快建设全球先进制造业基地,特制定本规划。规划期限为2026-2030年。
征求意见指出,芯片设计与制造领域,突破低功耗芯片设计,发展高端通用芯片、专用芯片、智能芯片等,开发第五代精简指令集架构芯片。
晶圆制造领域,加速突破3-7nm制程。关键材料领域,发展化合物半导体材料、电子气体、高纯靶材、光刻胶等。关键设备领域,发展离子注入机、涂胶显影、先进制程光刻机、刻蚀机等。
封装测试领域,加快突破芯粒封装、三维异构集成封装、异质封装、脉冲序列测试等技术。新一代半导体领域,发展氧化镓、金刚石、碳化硅、氮化镓等。
以下为征求意见稿原文截图:
来源:https://news.pconline.com.cn/2065/20659312.html
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