Rapidus猛攻2nm制程 产能目标一年翻三倍
时间:2026-02-13 | 作者: | 阅读:02月13日消息,据wccftech报道,Rapidus正加速推进2nm制程量产计划,目标2028年实现全面量产。
Rapidus于2025年4月启动试产线,同年8月完成2nm GAA测试芯片流片,并计划在2026年第一季度向客户交付2nm PDK。
产能方面,Rapidus预计2027年初期月产能为6000片晶圆,仅一年后便计划提升至约2.5万片,增幅超过四倍。
在工艺性能上,Rapidus推出名为“2HP”的尖端2nm工艺,逻辑密度达237.31 MTr/mm2,与台积电N2工艺的236.17 MTr/mm2基本持平,均属高密度单元库范畴,相较英特尔Intel 18A的184.21 MTr/mm2优势明显。
与此同时,Rapidus已着手规划更先进的1.4nm制程,目标2029年实现量产。
Rapidus由索尼、丰田、NTT、三菱、NEC、铠侠、软银等八家日本企业于2022年共同成立,致力于先进半导体工艺的本土化设计与制造。目前Rapidus正在北海道千岁市建设创新集成制造工厂,作为2nm芯片的生产基地。
来源:https://news.mydrivers.com/1/1104/1104084.htm
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