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国产芯片设备巨头并购补齐PVD刻蚀短板破美国制裁

时间:2026-07-02  |  作者:318050  |  阅读:0

拓荆科技筹划收购无锡尚积,补齐PVD与刻蚀短板

7月1日,半导体设备龙头拓荆科技发布重磅公告:公司正筹划通过“发行股份+支付现金”的组合方式,收购无锡尚积半导体的控股权。

这次收购的战略意图非常明确:进一步补强拓荆科技在半导体薄膜沉积与刻蚀领域的业务版图。

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无锡尚积:专注PVD、刻蚀与CVD核心设备

无锡尚积虽然2024年才成立,但一上场就主打三大核心设备:

  • PVD(物理气相沉积)
  • ETCH(刻蚀)
  • CVD(化学气相沉积)

与此同时,拓荆科技目前总市值高达2352亿元,2025年营收达65.19亿元,同比增长58.87%。体量和增速都相当惊人。

精准击中短板:从单一设备商升级为整体方案提供商

从业务层面看,这次收购精准击中了拓荆科技的短板——PVD与干法刻蚀

拓荆科技自己表态:收购完成后,公司将从单一设备商,向核心工艺整体解决方案提供商升级。言下之意,是要在产业链上占据更关键的位置。

美国制裁倒逼:国产替代紧迫感推动战略布局

不得不提的是大背景。2024年12月,美国商务部将约140家中国实体列入出口管制实体清单,拓荆科技就在其中。

这次并购,正是在美国持续施压的背景下展开的战略布局。可以说,国产替代的紧迫感直接推动了这一动作。

行业共振:中微公司同步收购,国家大基金释放政策信号

有意思的是,中微公司也在差不多的时间段完成了对杭州众硅的战略收购。

半导体业内人士普遍认为,国家大基金已释放出清晰的政策信号——支持头部企业通过并购整合,提升整个产业的竞争力。这已经不是一条赛道上的单兵作战,而是系统性的集团冲锋

风险提示:交易尚处筹划阶段,估值未定

当然,也得冷静一下:这次交易目前还处于筹划阶段,标的资产的估值和定价都还没有最终确定。

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来源:整理自互联网
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