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苹果iPhone 20设计细节曝光:1.1毫米极窄边框与屏下摄像头技术挑战

时间:2026-03-31  |  作者:  |  阅读:0

据悉,iPhone 20将采用1.1毫米极窄边框设计,并打造独特的圆润边缘,使手机外观如同无缝玻璃面板。

为实现极窄边框,iPhone 20将采用真全面屏设计,搭载四曲面瀑布屏,屏幕四边向机身中框自然弯曲。

消息源透露,该全面屏设计面临巨大技术挑战,面容识别模块需移至屏幕底部。目前苹果研发遇到阻碍,工程师难以保证光线完美穿透屏幕玻璃,传感器识别准确率不达标。

据悉,距离这款纪念版手机量产还有约18个月时间,苹果研发团队仍有充足时间解决技术问题。

来源:https://news.pconline.com.cn/2123/21235452.html
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