光刻机在华销售额显著下降!ASML最新发声:中国将加速自主替代
时间:2026-05-22 | 作者: | 阅读:05月22日消息,“如果我将你放到沙漠里,告诉你今后再也没有食物来源了,你需要多久才开垦出自己的菜园?”
20日参加在比利时安特卫普举行的科技活动时,荷兰光刻机巨头阿斯麦(ASML)首席执行官富凯呼吁,针对芯片制造设备输华的出口,制定更为一致的规则。
他认为,持续收紧的对华光刻机出口管制,非但无法遏制中国芯片产业发展,反而会加速中国自主研发替代设备的步伐。
美国国会4月提出《硬件技术控制多边协调法案》(MATCH 法案),要求荷兰、日本等盟友全面遵守美国出口管制措施,在现行极紫外光刻机(EUV)对华全面禁售的基础上,进一步将浸没式深紫外光刻机(DUV)等设备也纳入限制范围,甚至禁止为已售设备提供售后服务。
对此,荷兰政府已明确表示反对,认为该法案存在不合理的域外管辖效力。
富凯指出,阿斯麦目前向中国市场出售的DUV设备,本身基于2015年的技术,对应八代之前的芯片制造工艺。
他用一个形象的比喻强调了限制的反效果:“如果我将你放到沙漠里,告诉你今后再也没有食物来源了——你需要多久才开垦出自己的菜园?这是存亡的问题。”
事实上,出口管制已经对阿斯麦的在华业务造成显著冲击。阿斯麦今年1月预计,公司2026年在中国市场销售额占比将从去年的33%大幅下滑至20%。中国海关总署的数据也印证了这一趋势,今年第一季度,中国从荷兰进口的光刻设备同比下降24.3%。
业内分析认为,富凯的表态反映了欧洲科技企业对美国单边管制政策的担忧。过度限制不仅会损害全球半导体产业链的稳定,也会倒逼中国加快核心技术自主化进程,最终可能导致管制措施失去原本的意义。
来源:https://news.mydrivers.com/1/1124/1124247.htm
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