国产光刻胶再突破:DUV浸没式ArF打入头部晶圆厂
时间:2026-06-12 | 作者:318050 | 阅读:0先进工艺突破:鼎龙光刻胶打入头部晶圆厂
最近一段时间,先进工艺领域的突破性消息接连传来。除了光刻机这个“老大难”,光刻胶这块儿的脖子也没少被卡。
好消息是,国内又有公司在这个赛道上杀出来了,而且直接打进了头部晶圆厂的供应体系。
关键数据:8款高端光刻胶获批量订单
鼎龙股份这周发了个公告,核心信息量不小:他们的KrF/ArF高端晶圆光刻胶产线,自今年3月20日投产后,已经向两家头部晶圆厂交付了数百加仑的产品。
并且是在客户的量产线上跑通了的。更重要的是,这两家客户最近又追加了近1000加仑的订单。
具体来看几个关键数字。截至目前,鼎龙已经有8款高端晶圆光刻胶拿到了国内主流晶圆厂的批量订单——其中ArF和KrF光刻胶各4款,对比今年一季度末,等于一下子多了5款。
此外,还有好几款产品预期今年内就能完成订单转化。公司方面也在提速,2026年上半年的产品交付量预计会有明显攀升。
测试进展与产品布局
测试进展也值得关注。鼎龙目前已经布局了40多款高端晶圆光刻胶,其中近30款已经送样给客户做验证测试,超过10款进入了加仑样测试阶段。
这个节奏和覆盖面,在国内厂商里算相当快的。
那么,这次公告的“含金量”到底在哪?坦白说,之前国内也有四五家公司宣布过ArF光刻胶出样,但大多是含糊带过,很少透露具体的技术级别。鼎龙这次特别提到了“浸没式ArF”这个关键词,这就很不一样了。
浸没式ArF:技术含金量解析
光刻胶虽然是半导体制造的核心材料,但不同产品之间的技术差距可以很大。最顶尖的是EUV光刻胶,国内还在攻关;主流的ArF光刻胶,则对应193nm波长的DUV光刻机。
但同样是ArF,干式和浸没式的差别堪称“天壤之别”。干式ArF一般用在28nm及以上的工艺,而浸没式ArF(有时缩写为ArFi)则能支持到14nm乃至7nm节点,技术难度直接上了一个甚至两个台阶。
顺便提一句,根据德邦证券2022年的一份研报,ArF光刻胶的价格大约在1000万元一吨。这两年半导体材料普遍涨价,实际价格只会更高。所以,能在这个级别上拿到头部客户的批量订单,含金量可想而知。
市场价值与竞争格局
说到底,这次鼎龙公告里最有分量的,就是“浸没式ArF光刻胶”供货国内两大头部晶圆厂这一条。在此之前,国内只有南大光电去年公开宣布过给晶圆厂出样浸没式ArF光刻胶,其他厂商大多只是含糊提到ArF或KrF。
至于更详细的技术指标,别说公告里不会写,估计也没有哪家企业愿意把核心参数亮出来。一来是产业发展的保密需要,二来,对资本市场来说,这种“恰到好处的模糊感”,本身也是一种想象空间。
来源:整理自互联网
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