1月4日消息，下周的CES展会上Intel预计会正式推出Panther Lake处理器，这是18A工艺量产的首款消费级处理器。

18A工艺是近年来Intel最关键的一次升级，没有之一，用上RibbonFET晶体管及PowerVia背部供电技术，可以进一步降低芯片功耗，提高频率。

18A工艺已经在Intel位于亚利桑那州的Fab 52工厂量产，达产时月产能将达到4万片晶圆，良率表现据说也达到了预期。

Intel 10月份组织了一次工厂行，开放了Fab 52工厂参观，还展示了先进的EUV光刻机，但是18A工艺还有很多秘密没有公布，很可能用上了下一代的High NA EUV光刻机作为杀手锏。

High NA型是当前EUV光刻机的下一代产品，主要是NA指标从0.33提升到了0.55，可以进一步提升光刻分辨率，但是成本提升也是巨大的，一台售价要4亿美元，约合28亿元，比当前EUV光刻机1.5-2亿美元的价格翻倍还多。

Intel在EUV光刻机商落后了，因此把High NA EUV视为工艺翻身的机会，前几年就官宣成为High NA EUV的首家客户，从Intel这两年公布的信息来判断，他们至少买了3台High NA EUV光刻机了。

不过也有说法是Intel包圆了ASML这几年来的High NA EUV产能，大约有6-7台，可以说非常壕了，毕竟台积电、三星并不打算第一时间就抢购High NA EUV光刻机。

Intel如此大手笔购买High NA EUV是做什么用的？此前他们提到会在下一代的14A工艺上应用这种光刻技术，但是14A还没建厂呢，目前最多是在试验开发中。

Intel自己披露的消息称，他们每个季度使用High NA EUV生产超过3万片晶圆，也就是每个月1万片晶圆，要知道1万的产能对实际量产的工厂来说都不小了，现在Intel在技术研发上就如此大量生产，实在是太烧钱太奢侈了。

这不太合理，那High NA EUV光刻机可能还有一种用途，就是现在的18A工艺上已经秘密使用了这种光刻机，但Intel不打算宣传也不打算公布。

猜测Intel的想法是把High NA EUV作为18A工艺秘而不宣的优势，打竞争对手一个措手不及，延长Intel在High NA EUV技术上的优势。

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