出错超2次就开除 华裔CEO对Intel重立规矩:只因18A流片太费钱
时间:2026-05-31 | 作者: | 阅读:05月31日消息,随着陈立武去年接替基辛格执掌Intel CEO,美国四大半导体巨头的CEO全部换成了华裔,这与印度裔CEO统治美国互联网、软件行业有很大不同。
不论华裔、印度裔,每一个能成为全球科技巨头的CEO都是人类中的精英,如果要找一点不同的,那就是华裔CEO普遍看重的一点就是执行力,AMD苏姿丰、NVIDIA黄仁勋、博通陈福阳及现在的Intel陈立武都是这样的。
前不久陈立武在摩根大通的全球会议上的一个表态引发了热议,那就是他提到自己对Intel内部的芯片开发重新立了一个新规矩——公司追求的是A0步进就能到最后量产,做到A0一次通过是目标,次之就是B0步进,做到这个地步公司还能接受,员工能保住工作,如果B0都不行,那就没有第三次机会了,员工会被开除。
陈立武这里的员工恐怕不会只包括基层的研发人员,负责的高管势必也会涉及在内。
这个新规在Intel内部引发了强烈争议,因为以往Intel是没有这种文化的,芯片一次流片不行那就继续流片呗,错了就改,改了再犯,犯了还改,千锤百炼。
从网上看到的一个消息不确定保真不保真,传闻之前有款至强芯片流片了12还是14次,大家想想过去几年中是不是有款至强处理器跳票了一两年之久。
放在以前,这种事在Intel内部确实不算啥大事,因为芯片工厂是自己内部的,一次两次不成功就继续流片,不耽误员工和高管领工资。
但是现在不一样了,不仅是换了陈立武这样的CEO,是现在的时代玩不起这样反复流片的操作了,尤其是Intel现在的工艺到了18A这个节点,2nm级别的工艺实在是太贵了。
建一座2nm级别的芯片工厂,买EUV光刻机及其他设备等加起来投入差不不多要200亿美元,先进工艺从设计到生产有更多的流程,光是掩模版费用就是几千万美元,EDA同样价值不菲。
让AI算了下流片的费用,不算前面的非经常性成本,光是掩模版(光罩)和晶圆费用(流片测试可能也要生产几百片晶圆),搞不好一次就要5000万到1亿美元。
这还只是生产出来的费用,流片出来还会有很多测试、验证,要投入大量的工程师资源,更关键的是如今AI时代,哪怕Intel不怕烧钱,但多次流片会导致产品错过少则几个月多则一年以上的时间机会,还会引发客户的不满,别人直接转投竞争对手去了。
换你来当Intel CEO,会对Intel员工以往的这种作风满意吗?现在只能刮骨疗伤了。
来源:https://news.mydrivers.com/1/1126/1126216.htm
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